比比招标网> 政府采购 > 双靶磁控溅射镀膜设备(清设比选20220567号)采购公告
更新时间 | 2022-04-20 | 招标单位 | 我要查看 |
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双靶磁控溅射镀膜设备(清设比选********号)采购公告
采购项目名称 | 双靶磁控溅射镀膜设备 | 采购项目编号 | 清设比选********号 |
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公告开始时间 | ****-**-** **:**:** | 公告截止时间 | ****-**-** **:**:** |
采购单位 | 清华大学[联系方式] | 付款方式 | 合同签订后付款**%,验收合格后*周付尾款**% |
对外联系人 | 本项目不接受咨询 | 联系电话 | 本项目不接受咨询 |
签约时间要求 | 成交后**个工作日 (如不按时签订合同,采购单位有权取消或变更采购结果) | 交货时间要求 | 签订合同后**个工作日 |
最高限价 | 未公布 | ||
交货地址 | 北京市清华大学[联系方式] | ||
供应商特殊资质要求 |
无 |
物资名称 | 采购数量 | 计量单位 |
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双靶磁控溅射镀膜设备 | * | 台 |
品牌 品牌* | |
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单价 | ¥ |
技术参数及配置要求 | 技术参数及配置要求:*. 真空腔室:要求采用***不锈钢材质,尺寸不小于Φ***×******,配至少*套防污镜面隔板;前门需设计可供观察窗口,观察窗玻璃尺寸不小于Φ****;*. 真空系统:主泵分子泵抽速不小于******/*,前级泵旋片泵抽速不小于****/*,主阀需采用超高真空可调闸板阀;*. 真空极限: 优于*.*×**-***;*. 抽速:抽至*.*×**-***≤*****;*. 基片台:实现平面小片镀膜基片台*套,最大可镀* 英寸(Φ*****)* 片或者均布其它规格小片;基片台旋转,转速*-***** 连续可调;实现粉体颗粒镀膜样品台*套;*. 溅射靶:不少于*只***** 圆形平面靶,可调整角度,可单靶轮流/双靶聚焦共溅射;*. 溅射电源:至少*台不小于***** 射频电源,频率**.*****,自动匹配;*. 膜厚控制系统:可通过薄膜沉积控制仪和时间设定两种方式控制膜厚,可与***-****匹配的水冷探头*路;*. 气路系统:不少于*路工艺气体*** 控制,量程范围需满足工艺制备金属、金属氧化物的需要;**. 水冷系统:水冷部件有分子泵、溅射靶及旋转密封磁流体等;**. 控制方式:采用***+触摸屏控制,可设置需要溅镀的总层数,设置材料,设置各层镀膜厚度,设置每层膜之间的间隔时间;设置参数保存后实现程序自动镀膜,镀膜结束. |
质保期 | **个月 |
清华大学[联系方式]
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报名地址:******************