【招标公告】泉州师范学院物信学院镀膜实验室设备货物类采购项目...

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*********-其他光学仪器

镀膜机 （单探头）

*（套）

否

*、主要技术参数 （*）烘烤最高温度：***℃，用于除真空室内水汽。 （*）整机主要系统空载极限真空度达到*×**-***。 （*）恢复真空度：*×**-***，小于**分钟。 （*）电子枪：*支***度*型枪，功率***可调。 （*）膜厚控制仪：膜厚仪，单探头晶控系统。 （*）真空系统控制采用电脑+***，可实现整机系统连续自动镀膜和实时监控。 （*）分子泵与高阀之间配水冷冷阱。 （*）主要密封胶圈采用氟橡胶。 *、系统详细配置 （*）形式：箱式，立式前开门，蒸发室和抽气室为焊接式；主机与电控柜之间安装金属线槽（主要连接电线、软水管和软气管均放入金属线槽），并从主机与电控柜上方通过。 （*）真空腔体：内腔尺寸为Ф*****（直径）。采用***不锈钢制造，内表面作抛光处理，外壁（包括高阀上端与真空室）通冷却水,内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管（耐*-*公 斤水压）。箱体内衬不锈钢防污板（侧壁防污板厚度δ=***，室内下防污板厚度δ≧*.***，包括抽气口采用活动百叶窗两套，防污板为可拆卸式、便于清洗；真空室外壁配有水冷。真空室外壁采用多段水冷却。提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 在真空室顶部设置起重吊环。外壁通冷却水管，不锈钢材料，与真空室体外部焊接要求横平竖直，不锈钢材料，焊缝牢固可靠，整洁美观。箱体内表面要求先抛光处理后，提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 （*）真空室门：采用***不锈钢材料，内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管，通冷却水冷却；真空室门上装有表面涂漆的外装饰板；真空室门上设观察窗*个，配置铅玻璃和可手动旋转的防护镜。采用先进的偏光技术可通过旋转玻璃角度来改变明亮度。真空室门采用气缸自动关门技术更快节省了镀膜时间。 （*）主机骨架:骨架前面有带锁的门；两侧有固定侧板。 （*）水冷却系统:主进、出水分配管采用不锈钢管制成，各主要冷却均单独供水冷却。进、出塑料软管有标识区分；对主泵、电子枪等加装水流保护，有断水报警。 （*）控电柜:采用并柜方式.*侧作为仪表安装柜,宽度为**英寸国际标准另*侧作为电器元件安装柜,为前后开门大板式结构。极限真空度:*×**－***（真空室洁净） （*）恢复真空时间:大气至*×**－* **≤*****(空载) （*）保真空:真空室达到极限真空度后，关闭高真空阀*小时后，真空室真空度≤*×**－*** （*）真空系统配置:主泵：分子泵*台罗茨泵*台（抽速****/***）前级泵: 双级直联泵*台（抽速约***/***）各真空阀门为气动阀门；配备防湍流装置(可减少真空室排大气时湍流对较轻工件的影响)装在真空窒底部；真空系统管道采用不锈钢材料，管道软连接处采用金属波纹管；能实现对真空腔体的快慢放气，充气阀口装配过滤器； （**）真空系统测量：配*路数字复合真空计*套（两路低真空电阻规，*路高真空电离规）；带压强控制仪功能。高真空电离规安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室*侧；预留冷阱检测接口；低真空电阻规*组安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室*侧，另*路安装在前级管道式，用于分子泵的启动及保护信号检测。真空规管均采用金属规管。 （**）系统操作：有手动和程序自动两种模式；***控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入***控制信号；***程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警。 （**）测试方法：按照*******真空镀膜机通用技术条件执行。 （**）工件架：*伞型工件盘夹具两套（不锈钢材料，开孔尺寸用户*个月内）。 （**）工件架旋转：转速*～*****，交流变频调速，上驱动方式。工件盘轴向、径向跳动小于等于±***；转动支承部位配有水冷套。磁流体密封。 （**）烘烤系统：桶状上烘烤。上烘烤加热器采用管状加热器。配温控仪，仪表控制精度为±*℃，控温方式为*点控温***自动控温及显示。烘烤功率：***。温度：最高***℃，温度可控可调；烘烤温度均匀性：设定温度±*℃。 （**）电子束蒸发源（双枪单电源）：加速电压：负 *-***；最大电流：？*.**（此时的加速电压是-***）电子束偏转角：***°（永磁铁）；*扫描电流：±**可调、****-***** ；*扫描电流：±**可调 ****-*****。 （**）坩埚：直接水冷；右枪*穴直冷坩埚*套，坩埚衬套尺寸：Φ*****，电动转位和点动转位（配坩埚衬套*个），驱动方式为步进电机；左枪为环形直冷坩埚*套，坩埚尺寸与右枪对称，驱动方式为步进电机， 转速可调。备有有线遥控盒手持操作；可开关高压，调节束流、开关挡板、带坩埚显示、束流显示等。配*套气动挡板机构，转动角度*定范围内可调，挡板为插入式。配*套固定式修正挡板，可调节高度及角度，安装在左、右电子枪上方。 （**）阻蒸：*组，电压***，功率**** 。 （**）晶体控制仪：膜厚仪，*台配单探头，*台配*探头，并配相应的控制系统，采用电脑膜系编辑导入。（*）控制电子束蒸发源蒸发速率。（*）控制及电子束蒸发源挡板。（*）控制材料充气。（*）控制电子枪坩埚的转动。可控制自动实现整个镀膜工艺。 （**）离子源辅助：配离子源 *台 （**）充气系统：配两路“山武”质量流量计，流量控制范围*～*******。带压强控制功能，可实现每个坩埚不同的真空度，在-* **范围可控。 （**）电气控制系统：***+电脑对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、晶控膜厚监控系统等进行监测和控制，实现真空系统及晶控镀膜过程自动控制，安全报警及故障信息显示，并通过文字方式提示。控电柜面板下方安装两个单相****、***电源插座。水、电、气路有故障自动报警和保护系统。 （**）设备颜色：采用标准色标。

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*********-其他光学仪器

镀膜机 （*探头）

*（套）

否

*、主要技术参数 （*）烘烤最高温度：***℃，用于除真空室内水汽。 （*）整机主要系统空载极限真空度达到*×**-***。 （*）恢复真空度：*×**-***，小于**分钟。 （*）电子枪：*支***度*型枪，功率***可调。 （*）膜厚控制仪：膜厚仪，*探头晶控系统。 （*）真空系统控制采用电脑+***，可实现整机系统连续自动镀膜和实时监控。 （*）分子泵与高阀之间配水冷冷阱。 （*）主要密封胶圈采用氟橡胶。 *、系统详细配置。 （*）形式：箱式，立式前开门，蒸发室和抽气室为焊接式；主机与电控柜之间安装金属线槽（主要连接电线、软水管和软气管均放入金属线槽），并从主机与电控柜上方通过。 （*）真空腔体：内腔尺寸为Ф*****（直径）。采用***不锈钢制造，内表面作抛光处理，外壁（包括高阀上端与真空室）通冷却水,内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管（耐*-*公 斤水压）。箱体内衬不锈钢防污板（侧壁防污板厚度δ=***，室内下防污板厚度δ≧*.***，包括抽气口采用活动百叶窗两套，防污板为可拆卸式、便于清洗；真空室外壁配有水冷。真空室外壁采用多段水冷却。提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。在真空室顶部设置起重吊环。外壁通冷却水管，不锈钢材料，与真空室体外部焊接要求横平竖直，不锈钢材料，焊缝牢固可靠，整洁美观。箱体内表面要求先抛光处理后，提高内表面光洁度，再进行焊接加工，焊接无堆积现象以减少气体负载。 （*）真空室门：采用***不锈钢材料，内表面作抛光处理，外表面为直接焊不锈钢半圆水管，通冷却水冷却；真空室门上装有表面涂漆的外装饰板；真空室门上设观察窗*个，配置铅玻璃和可手动旋转的防护镜。采用先进的偏光技术可通过旋转玻璃角度来改变明亮度。真空室门采用气缸自动关门技术更快节省了镀膜时间。 （*）主机骨架:骨架前面有带锁的门；两侧有固定侧板。 （*）水冷却系统:主进、出水分配管采用不锈钢管制成，各主要冷却均单独供水冷却。进、出塑料软管有标识区分；对主泵、电子枪等加装水流保护，有断水报警。 （*）控电柜:采用并柜方式.*侧作为仪表安装柜,宽度为**英寸国际标准另*侧作为电器元件安装柜,为前后开门大板式结构。极限真空度:*×**－***（真空室洁净） （*）恢复真空时间:大气至*×**－* **≤*****(空载) （*）保真空:真空室达到极限真空度后，关闭高真空阀*小时后，真空室真空度≤*×**－*** （*）真空系统配置:主泵：分子泵*台罗茨泵*台（抽速****/***）前级泵: 双级直联泵*台（抽速约***/***）各真空阀门为气动阀门；配备防湍流装置(可减少真空室排大气时湍流对较轻工件的影响)装在真空窒底部；真空系统管道采用不锈钢材料，管道软连接处采用金属波纹管；能实现对真空腔体的快慢放气，充气阀口装配过滤器。 （**）真空系统测量：配*路数字复合真空计*套（两路低真空电阻规，*路高真空电离规）；带压强控制仪功能。高真空电离规安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室*侧；预留冷阱检测接口；低真空电阻规*组安装在真空箱体抽气室顶部靠近工作室*侧，另*路安装在前级管道式，用于分子泵的启动及保护信号检测。真空规管均采用金属规管。 （**）系统操作：有手动和程序自动两种模式；***控制所有泵阀动作；高阀、低阀、预阀，到位信号送入***控制信号；***程序带故障报警功能，如气压、水流、机械泵等保护及报警。 （**）测试方法：按照*******真空镀膜机通用技术条件执行。 （**）工件架：*伞型工件盘夹具两套（不锈钢材料，开孔尺寸用户*个月内）。 （**）工件架旋转：转速*～*****，交流变频调速，上驱动方式。工件盘轴向、径向跳动小于等于±***；转动支承部位配有水冷套。磁流体密封。 （**）烘烤系统：桶状上烘烤。上烘烤加热器采用管状加热器。配温控仪，仪表控制精度为±*℃，控温方式为*点控温***自动控温及显示。烘烤功率：***。温度：最高***℃，温度可控可调；烘烤温度均匀性：设定温度±*℃。 （**）电子束蒸发源（双枪单电源）：加速电压：负 *-***；最大电流：？*.**（此时的加速电压是-***）电子束偏转角：***°（永磁铁）；*扫描电流：±**可调、****-***** ；*扫描电流：±**可调 ****-*****。 （**）坩埚：直接水冷；右枪*穴直冷坩埚*套，坩埚衬套尺寸：Φ*****，电动转位和点动转位（配坩埚衬套*个），驱动方式为步进电机；左枪为环形直冷坩埚*套，坩埚尺寸与右枪对称，驱动方式为步进电机， 转速可调。备有有线遥控盒手持操作；可开关高压，调节束流、开关挡板、带坩埚显示、束流显示等。配*套气动挡板机构，转动角度*定范围内可调，挡板为插入式。配*套固定式修正挡板，可调节高度及角度，安装在左、右电子枪上方。 （**）阻蒸：*组，电压***，功率**** 。 （**）晶体控制仪：膜厚仪，*台配单探头，*台配*探头，并配相应的控制系统，采用电脑膜系编辑导入。（*）可控制电子束蒸发源蒸发速率。（*）可控制及电子束蒸发源挡板。（*）可控制材料充气。（*）可控制电子枪坩埚的转动。可控制自动实现整个镀膜工艺。 （**）离子源辅助：配离子源 *台 （**）充气系统：配两路“山武”质量流量计，流量控制范围*～*******。带压强控制功能，可实现每个坩埚不同的真空度，在-* **范围可控。 （**）电气控制系统：***+电脑对设备真空系统、蒸发源系统、烘烤系统、工件转动系统、晶控膜厚监控系统等进行监测和控制，实现真空系统及晶控镀膜过程自动控制，安全报警及故障信息显示，并通过文字方式提示。控电柜面板下方安装两个单相****、***电源插座。水、电、气路有故障自动报警和保护系统。 （**）设备颜色：采用标准色标。

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*********-其他光学仪器

冷水机

*（台）

否

（*）温度：**-**℃ （*）流量：≥****/* （*）压力：*.*-*.***** （*）控制：***自动控制 （*）管道：采用台塑南亚管件，外套保温棉

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*********-其他光学仪器

喷砂机

*（台）

否

（*）内置：带装盘，带推车 （*）电压：**** **** （*）功率：≥****

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*********-其他光学仪器

真空专用铝箔

*（台）

否

（*）尺寸：≥*.******** （*）重量：≥****

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